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4 小时前
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目标 2029 年不依赖 EUV 光刻机实现等效 5nm 的全国产方案,国内首条二维半导体工程化示范工艺线全线贯通
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目标 2029 年不依赖 EUV 光刻机实现等效 5nm 的全国产方案,国内首条二维半导体工程化示范工艺线全线贯通 - IT之家
原集微科技董事长包文中表示,依托二维材料原子级厚度的天然优势,其无需依赖复杂的 FinFET 或环栅结构,即可实现晶体管的持续微缩。
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