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4 天前
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ASML国内展出两款新型光刻机 不高于110nm、4倍生产效率
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ASML国内展出两款新型光刻机 不高于110nm、4倍生产效率
在日前的第八届进博会上,荷兰ASML公司在国内展示了两款新型光刻机TWINSCANXT:260及TWINSCANNXT:870B。但是这两款光刻机不是用于大家平常接触的那种场合,不是用于芯片光刻生产的,而是用于3D封装等先进封装领域的。
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